光刻機是誰發明的

光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅片上。光刻機的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。

光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫着線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到硅片上。然後使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。光刻機的製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，因此，世界上只有少數廠家掌握。