光刻機對第三代半導體的影響

光刻機對第三代半導體的影響相對較小。第三代半導體主要使用成熟製程工藝，其製造過程不需要高端光刻機，避免了被荷蘭ASML的高端光刻機卡脖子的風險。然而，攻克第三代半導體光刻機技術仍然表明中國的高科技產業正在經歷一次前所未有的飛躍。同時，第三代半導體具有諸多性能上的優勢，有國內大市場和國家政策的重要支持，但市場相對較小，是其不可忽視的缺陷。