光刻機有什麼分類

光刻機（Mask Aligner)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。那麼網友們知道光刻機有什麼分類嗎？下面一起來了解一下吧。

1、光刻機一般根據操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動。

2、手動：指的是對準的調節方式，是通過手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了。

3、半自動：指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧。

4、自動：指的是從基板的上載下載，曝光時長和循環都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對於處理量的需要。

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